SKIN1004 Madagascar Centella Probio-Cica Nourishing Mask Питательная тканевая маска с пробиотиками

Питательная тканевая маска SKIN1004 Madagascar Centella Probio-Cica Nourishing Mask — это мощное средство для ухода за кожей, которое помогает бороться с сухостью, шелушением и огрубением. Она поддерживает упругость и эластичность тканей, уменьшает морщины и предотвращает их появление.

Маска пропитана кремовой эссенцией, которая глубоко питает кожу и устраняет стянутость. Она плотно прилегает к лицу, обеспечивая равномерное распределение активных ингредиентов и не скатывается в процессе использования.

Основные действующие компоненты маски:

* TECA (Asiaticoside, Madecassic Acid, Asiatic Acid, Madecassoside) — комплекс экстрактов центеллы азиатской, который обладает противовоспалительным и заживляющим действием. Он снижает чувствительность кожи, укрепляет стенки сосудов и улучшает микроциркуляцию.
* Пробиотики нормализуют гидролипидный баланс кожи, подавляют воспалительные процессы и укрепляют местный иммунитет. Они активизируют микроциркуляцию, улучшают клеточный обмен и выравнивают тон кожи.
* 9 пептидов оказывают мощное антивозрастное действие. Они стимулируют регенерацию клеток, сокращают глубину морщин, разглаживают и подтягивают кожу. Ботулоподобный пептид аргирелин расслабляет мышцы лица, предотвращая появление мимических морщин.
* Церамиды восстанавливают защитный барьер кожи, укрепляют его и снижают чувствительность к внешним раздражителям. Они устраняют сухость и шелушение, поддерживая оптимальный уровень увлажнения.
* Масло моринги ускоряет процессы обновления кожи, предотвращает её обезвоживание и повреждение, что помогает избежать шелушения. Оно также питает и смягчает кожу, придавая ей здоровый и сияющий вид.

Эта маска подходит для всех типов кожи, особенно для сухой, нормальной и комбинированной. Она станет незаменимым помощником в уходе за кожей, обеспечивая ей необходимое питание, увлажнение и защиту.

Способ применения: после очищения, тонизирования и нанесения сыворотки равномерно распределите маску по лицу. Оставьте на 10–20 минут, затем снимите. Позвольте оставшейся эссенции впитаться. При необходимости завершите уход нанесением крема.